2014年5月10日
[ 東京支店情報 ]
発明推進協会 知的財産研究センターのセミナー情報
【1】米国ソフトウェア特許の取得及び権利範囲解釈上の注意点と、中国ソフトウェア 特許 に関する諸問題
【2】特許調査実務講座(パワーアップ実践編)
【3】法体系の違いから みた外国商標出願入門)
【1】
発明推進協会 知的財産研究センター
米国ソフトウェア特許の取得及び権利範囲解釈上の注意点と、中国ソフトウェア特許に関する諸問題
発明推進協会 知的財産研究センター
米国ソフトウェア特許の取得及び権利範囲解釈上の注意点と、中国ソフトウェア特許に関する諸問題
発明推進協会 知的財産研究センター主催の下記セミナーが開催されます。
米国ソフトウェア特許の取得及び権利範囲解釈上の注意点と、中国ソフトウェア特許に関する諸問題
日本に出願したソフトウェア特許を米国に出願する場合、米国特有の制度を理解した上で出願及び審査を受ける必要があります。特に近年は、パテントトロールへの対策から明細書の記載要件が厳格化する方向にあり注意する必要があります。
そして、特許取得後はクレームの文言一つについて大きな議論となります。セミナーでは米国ソフトウェア特許クレームの権利範囲解釈の仕方、どのようにクレームを記載すべきであったかを実例を挙げて学習し、今後の明細書作成のレベルアップにつなげます。
また、近年では中国での権利化の重要性が高まっていることから、中国特有のソフトウェア特許についての注意点を解説します。
http://www.jiii.or.jp/kenshu/h26/0730.pdf
開催日時 平成26年7月30日(水)
10:00~17:00
会場 発明会館7階 研修ルーム
定員 50名
受講料 会員:16,500円 一般:19,000円
申 込 FAXもしくは、HPからお申込下さい。
(http://www.jiii.or.jp 「 研修のご案内」)
【2】
発明推進協会 知的財産研究センター
特許調査実務講座(パワーアップ実践編)
発明推進協会 知的財産研究センター
特許調査実務講座(パワーアップ実践編)
発明推進協会 知的財産研究センター主催の下記セミナーが開催されます。
特許調査実務講座(パワーアップ実践編)
“ うまい” 検索とはどんな状態であるのかをIPDL(特許電子図書館)を用いて、検索の操作方法、キーワード・技術内容からの絞込み、法的な状況の検索等について紹介します。次に具体的な事例を用いて、技術内容を調査するために必要な実務上の知識や技術分野を問わず必要となってくる留意点や勘所について、解説します。
IPDL を徹底活用し、商用データベースで得られる結果にまで近づけるような利用方法を伝授します。
一人に1台パソコンを用意し、講師と一緒に、実際に情報検索を行います。
講師にセイコーエプソン(株)知的財産本部で、特許検索等を担当し、その後、フリーのサーチャーとして経験を重ね、2007年に特許検索競技大会で優勝した酒井氏をお迎えし、ご指導いただきます。
http://www.jiii.or.jp/kenshu/h26/0717_18.pdf
開催日時 平成26年7月17日(木)~18日(金)
10:00~17:00
会場 発明会館7階 会議室
定員 限定20名
受講料 会員:41,500円 一般:49,500円
申 込 FAXもしくは、HPからお申込下さい。
(http://www.jiii.or.jp 「 研修のご案内」)
【3】
発明推進協会 知的財産研究センター
法体系の違いからみた外国商標出願入門
~各国商標制度の特殊性と対応策~
発明推進協会 知的財産研究センター
法体系の違いからみた外国商標出願入門
~各国商標制度の特殊性と対応策~
発明推進協会 知的財産研究センター主催の下記セミナーが開催されます。
法体系の違いからみた外国商標出願入門
~各国商標制度の特殊性と対応策~
経済のグローバル化により、大企業のみならず、中小企業も海外進出を余儀なくされています。海外での商品の生産、販売には自社商標の登録が不可欠です。
本講座では、まず、外国商標出願、調査の基本について解説します。次に、法体系の違いを踏まえて、各国商標制度の特殊性と対応策について解説します。
日本と全く異なる法体系(使用主義、フロード)からなる米国、模倣品の多い中国、28 か国をカバーする欧州共同体商標制度については、中間処理の方法も含め、特に詳しく解説します。
商標の国際登録制度「マドリッド協定議定書」については、最近顕在化してきたリスクとその対応策、利用方法についても言及する予定です。
本講座を受講することにより、各国バラバラな外国商標制度について法体系を踏まえて効率よく学習することができます。
http://www.jiii.or.jp/kenshu/h26/0711.pdf
開催日時 平成26年7月11日(金)
10:00~17:00
会場 発明会館7階 研修ルーム
定員 50名
受講料 会員:16,500円 一般:19,000円
申 込 FAXもしくは、HPからお申込下さい。
(http://www.jiii.or.jp 「 研修のご案内」)